【核心技术】
蔡司公司推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计，将低电压成像技术发挥到了 ，采用适宜的探针电流范围，降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间，提高效率。
【产品应用】
扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分 析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。
ZEISS蔡司Sigma300系列扫描电子显微镜
拥有高品质成像和分析功能的场发射扫描电镜
蔡司Sigma300系列是拥有高品质成像和分析功能的场发射扫描电镜。
它收益于久经考验的Gemini电子光学技术。
Sigma300可以配备多种探测器，可以满足不同的应用需求：颗粒物，表面构型及纳米结构等样品的成像。
利用Sigma 300直观的4步工作流程，可以使得日常所需的成像和分析的效率得到提高。
InLens探测器
InLensSE:镜筒内高分辨二次电子探测器Sigma300具有极高的性价比。无论何种试样，Sigma300都能以其高精确性及可重复的测量结果得到您的信
赖！
HDBSD探测器
高清晰度背散射电子探测器，在所有真空模式下，可对各类样品进行出色的低电压组份成像智能并加速工作流程
Sigma300的4步工作流程可控制Sigma的所有功能。可快速获取图像，同时，节约在培训上的时间。
导航您的样品，并为其设置的成像条件。
先进的分析系统
在样品上定义感兴趣区域，可自动实现在多个样品上采集图像。
获得可关联的可视化结果。
扫描电镜与要素分析相结合：
Sigma300顶尖的EDS几何设计能够增强分析能力，尤其是对电子束敏感的样品。
可实现在之前一半的束流下得到分析数据，同时测试速度比之前快一倍。
8.5mm的工作距离和35度的出射角，可得到完全没有阴影区域的分析结果。
灵活的探测手段获取高分辨率的图像
使用探测器技术描绘您的所有样本。
使用新型的ETSE二次电子探测器及用于高真空状态下的InLense二次电子探测器可以获得高分辨率的形貌信息。
VPSE和C2D探测器在各种压力模式下都可以获取清晰的图像。
使用环形STEM探测器可以获取高分辨率的传送图像。
使用四通道BSD探测器和钇铝石榴石晶体探测器研究成分。
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