PECVD管式炉

产品参数

• 品牌 华网
• 用途 高薄膜沉积速率: 采用射频辉光技术，大大提高了薄膜的沉积速率，沉积速率可达1000s. 高面积均匀性: 多点射频送料技术、特殊气路分布、加热技术等，使薄膜均匀性指数达到8%. 高浓度: 使用设计概念的半导体产业，一个沉积基板之间的偏差小于2%. 高过程稳定性: 高度稳定的设备确保了连续和稳定的过程。