苏州杉本有售大塚电子Otsuka膜厚量测仪 FE-300
苏州市新杉本电子科技有限公司/代理 直供 日本各类工业品/联系人陈小姐13451564111
特 长
薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析
高性能的低价光学薄膜量测仪
藉由绝对反射率光谱分析膜厚
完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能
无复杂设定，操作简单，短時間內即可上手
线性最小平方法解析光学常数（n:折射率、k:消光系数）
测量项目
绝对反射率测量
膜厚解析（10层）
光学常数解析（n：折射率、k：消光系数）
产品规格
| FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR※1 |
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对应膜厚 | 标准型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 超厚膜型 |
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样品尺寸 | 最大8寸晶圆（厚度5mm） |
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膜厚范围 | 100nm ~ 40μm | 10nm ~ 20μm | 3μm ~ 300μm | 15μm ~ 1.5mm |
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波长范围 | 450nm ~ 780nm | 300nm ~ 800nm | 900nm ~ 1600nm | 1470nm ~ 1600nm |
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膜厚精度 | ±0.2nm以內※2 | - |
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重复再现性（2σ） | ±0.1nm以內※3 | - |
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测量时间 | 0.1s ~ 10s以內 |
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量测口径 | 约φ3mm |
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光源 | 鹵素灯 | UV用D2灯 | 鹵素灯 | 鹵素灯 |
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通讯界面 | USB |
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尺寸重量 | 280（W）× 570（D）×350（H）mm，约24kg |
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软体功能 |
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标准功能 | 波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析 |
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选配功能 | 材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析 |
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※1 请于本公公司联系联系我们
※2 对比VLSI标准样品（100nm SiO2/Si），范围值同保证书所记载
※3 测量VLSI标准样品（100nm SiO2/Si）同一点位时之重复再现性。（扩充系数2.1）
应用范围
半导体晶圆膜（光阻、SOI、SiO2等）
光学薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）
测量范例
PET基板上的DLC膜
Si基板上的SiNx
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