简单介绍：

日本大冢膜厚量测仪FE-300 日本大冢膜厚量测仪FE-300 日本大冢膜厚量测仪FE-300

详情介绍：

膜厚量测仪　FE-300

产品信息

特　长

薄膜到厚膜的测量范围、UV~NIR光谱分析

高性能的低价光学薄膜量测仪

藉由优良反射率光谱分析膜厚

完整继承FE-3000优异机种90%的强大功能

无复杂设定，操作简单，短時間內即可上手

线性*小平方法解析光学常数（n:折射率、k:消光系数）

测量项目

• 优良反射率测量

• 膜厚解析（10层）

• 光学常数解析（n：折射率、k：消光系数）

产品规格

※1 请于本公公司联系联系我们
※2 对比VLSI标准样品（100nm SiO2/Si），范围值同保证书所记载
※3 测量VLSI标准样品（100nm SiO2/Si）同一点位时之重复再现性。（扩充系数2.1）

应用范围

半导体晶圆膜（光阻、SOI、SiO2等）
光学薄膜（OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等）

测量范例

• PET基板上的DLC膜



• Si基板上的SiNx

  

长期供应 大冢光学OTSUKA RETS-100 日本OTSUKA

日本大冢膜厚量测仪・光学材料检查设备EF-300    苏州市新杉本电子科技有限公司/ 日本大冢OTSUKA 苏州新杉本直销/联系人陈小姐15250013623